發(fā)布時(shí)間:2023-06-29 21:41:56 人氣:1118
? ?長(cháng)期服務(wù)于電子行業(yè)的潔凈室,無(wú)塵車(chē)間建設中,現對LED芯片的生產(chǎn)車(chē)間要不要
做恒溫恒濕無(wú)塵車(chē)間,具體工藝怎么樣?無(wú)塵車(chē)間的溫濕度,潔凈度等具體要求又是多少
進(jìn)行實(shí)際解析:
LED芯片的制造工藝流程?
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? ? ?LED芯片的制造工藝流程: 外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→
平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光
刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。
? ? 具體要不要做無(wú)塵車(chē)間決取于你在以上LED芯片的上游還是下游,具體的生產(chǎn)工藝包括哪些?像
我們給**LED芯片客戶(hù)無(wú)塵車(chē)間工藝里面有焊接或者錫膏或者有光刻曝光工藝的都會(huì )受溫濕
度影響的,因為溫度會(huì )影響錫膏的活性,對于里面所添加的助焊劑的相關(guān)溶劑的活性有一定的影響。
溫度高會(huì )增加其的活性,最終影響絲印貼裝及回流的效果。容易出現虛焊,焊點(diǎn)不光澤等現象。
濕度的大小回引起錫膏在空氣中吸入水氣的多少,如過(guò)吸如過(guò)多水氣,會(huì )使回流時(shí)產(chǎn)生氣空,飛漸,
連焊等現象。
? ?工程部在給客戶(hù)大規模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱
膨脹系數的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線(xiàn)性膨脹,所以必
須有±0.1度的恒溫,同時(shí)要求濕度值一般較低,因為人出汗以后,對產(chǎn)品將有污染,特別是怕鈉的半
導體車(chē)間,這種車(chē)間不宜超過(guò)25度。濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對濕度超過(guò)55%時(shí),冷卻水管壁上
會(huì )結露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會(huì )引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)易生銹。